蝕刻液及蝕刻液的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811337370.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109536961B | 公開(公告)日 | 2021-03-30 |
申請公布號 | CN109536961B | 申請公布日 | 2021-03-30 |
分類號 | C23F1/18(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 楊丁;黃雙武 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東東明新材科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 葉劍 |
地址 | 518101廣東省深圳市寶安區(qū)福海街道橋頭社區(qū)福海信息港A7棟411-423 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種蝕刻液及蝕刻液的制備方法,蝕刻液包括如下質(zhì)量濃度的各組分:過硫酸銨150克/升?350克/升;穩(wěn)定劑10克/升?110克/升;促進(jìn)劑0.01克/升?0.05克/升;表面活性劑0.001克/升?0.5克/升;水余量。上述蝕刻液,相對于傳統(tǒng)的蝕刻液,未含氯,因此,蝕刻液體系中未包含氯離子,不會對環(huán)境產(chǎn)生污染,消除了因氯離子所造成的環(huán)境及大氣污染,有利于清潔生產(chǎn)。且在蝕刻過程中,銑切速度較快,能夠適用于銅基線路板的化學(xué)銑切。?? |
