一種新型的抗電磁輻射光學(xué)薄膜屏蔽結(jié)構(gòu)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201820926754.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN208724321U 公開（公告）日 2019-04-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN208724321U 申請(qǐng)公布日 2019-04-09
分類號(hào) H05K9/00（2006.01）I 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 黃宗義; 蔣華梁; 辛似波; 王曙; 馮金寶 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 常州第二電子儀器有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州廣正知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 常州第二電子儀器有限公司
地址 213015 江蘇省常州市清潭路41號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種新型的抗電磁輻射光學(xué)薄膜屏蔽結(jié)構(gòu)，包括：在容易造成電磁侵入的光學(xué)窗口鏡片上涂覆有氧化銦錫薄膜層，氧化銦錫薄膜層的厚度為160?170nm。通過上述方式，本實(shí)用新型能夠抵御外來的電磁干擾，能夠抗50000V電磁脈沖，從而符合GJB1389A?2005系統(tǒng)電磁兼容性要求。