高速噴鍍銀結構
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121165720.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214736153U | 公開(公告)日 | 2021-11-16 |
申請公布號 | CN214736153U | 申請公布日 | 2021-11-16 |
分類號 | C25D5/08(2006.01)I;C25D3/46(2006.01)I;C25D7/12(2006.01)I;H01L23/495(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設備〔4〕; |
發(fā)明人 | 羅小平 | 申請(專利權)人 | 崇輝半導體(深圳)有限公司 |
代理機構 | 上海波拓知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 楊波 |
地址 | 518105 廣東省深圳市寶安區(qū)松崗街道江邊社區(qū)江邊第三工業(yè)區(qū)創(chuàng)業(yè)六路2號廠房1棟101 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供一種高速噴鍍銀結構,包括噴嘴和受鍍件,所述受鍍件上設有受鍍結構,所述噴嘴位于所述受鍍件的一側且對應所述受鍍結構設置,所述噴嘴內于靠近所述受鍍件的一側設有出液口,所述出液口為具有斜面的斜口結構,藥水由所述噴嘴噴射到所述受鍍件上的覆蓋寬度大于或等于所述受鍍結構的大小。本實用新型通過采用斜口結構的噴嘴,從而改善射水印的問題。 |
