一種降低芯片損傷率的吸嘴

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023007666.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN213905336U 公開（公告）日 2021-08-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN213905336U 申請(qǐng)公布日 2021-08-06
分類號(hào) H01L21/683;H01L21/66 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 鄧國發(fā);劉海波 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳廣盛浩科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京睿博行遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 計(jì)小玲
地址 518031 廣東省深圳市福田區(qū)保稅區(qū)桃花路6號(hào)騰飛工業(yè)大廈B棟十一層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及LD芯片測(cè)試領(lǐng)域，具體為一種降低芯片損傷率的吸嘴，包括吸嘴頭，吸嘴頭頂部設(shè)置有氣管管座，氣管管座內(nèi)設(shè)置有管座孔，氣管管座一側(cè)設(shè)置有用于對(duì)吸嘴進(jìn)行周向固定的側(cè)切面，吸嘴頭與氣管管座之間的連接部位設(shè)置有氣管限位臺(tái)階，吸嘴頭內(nèi)貫穿設(shè)置有延伸至管座孔內(nèi)的吸氣孔，吸嘴頭底部設(shè)置有平面，平面內(nèi)交叉設(shè)置有第一吸嘴凹槽和第二吸嘴凹槽。芯片在被吸附時(shí)從點(diǎn)接觸或線接觸變成面接觸，通過在吸嘴頭頭部平面上開設(shè)兩個(gè)呈九十度交叉的第一吸嘴凹槽和第二吸嘴凹槽，第一吸嘴凹槽和第二吸嘴凹槽的寬度和深度大于芯片上表面凸起部分的寬度和高度，有效避免了芯片在被吸附時(shí)造成的損傷。