適用于電容用氮化硅和做屏蔽層保護(hù)用氮化硅的氣路系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201820475654.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN208154103U 公開(kāi)(公告)日 2018-11-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN208154103U 申請(qǐng)公布日 2018-11-27
分類(lèi)號(hào) F17D1/02;F17D3/01;F17D3/18 分類(lèi) 氣體或液體的貯存或分配;
發(fā)明人 楊勇;余慶;趙江波;王艷兵;方勇進(jìn);張敏森;張國(guó)成 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 華越微電子有限公司
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法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種適用于電容用氮化硅和做屏蔽層保護(hù)用氮化硅的氣路系統(tǒng),包括第四進(jìn)氣管;所述的第四進(jìn)氣管上依次安裝有第四隔膜閥、第四調(diào)壓閥、第十七常閉氣動(dòng)閥;所述的第四進(jìn)氣管與第五質(zhì)量流量計(jì)通過(guò)管路相連;所述的第十常閉氣動(dòng)閥、第十一常閉氣動(dòng)閥之間的管路與第十八常閉氣動(dòng)閥通過(guò)管路相連;所述的第十八常閉氣動(dòng)閥通過(guò)管路與所述的第十七常閉氣動(dòng)閥、第五質(zhì)量流量計(jì)之間的管路相連;所述的第五質(zhì)量流量計(jì)通過(guò)管路與第十九常閉氣動(dòng)閥相連;所述的第十九常閉氣動(dòng)閥通過(guò)管路與第九常閉氣動(dòng)閥通過(guò)管路相連。本實(shí)用新型系統(tǒng)能適用CAP?SIN或F?SIN兩種工藝,且運(yùn)行穩(wěn)定,適應(yīng)性強(qiáng),以最小投入成本完成系統(tǒng)改造。