硅片金屬雜質(zhì)檢測樣品保護(hù)裝置及硅片金屬雜質(zhì)檢測方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010258528.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113495095A | 公開(公告)日 | 2021-10-12 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113495095A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-12 |
分類號(hào) | G01N27/626(2021.01)I;G01N35/10(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 陳宇馳;張俊寶;陳猛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 重慶超硅半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 400714重慶市北碚區(qū)兩江新區(qū)云漢大道5號(hào)附188號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種硅片金屬雜質(zhì)檢測樣品保護(hù)裝置及硅片金屬雜質(zhì)檢測方法,通過本發(fā)明公開的方案,可以將金屬雜質(zhì)檢測樣品放置在保護(hù)裝置容納腔中的自動(dòng)進(jìn)樣器上,由于潔凈氣流循環(huán)系統(tǒng)可以為該保護(hù)裝置內(nèi)部輸入潔凈氣流,并采用了一定風(fēng)速的排風(fēng),所以使得自動(dòng)進(jìn)樣器附近空間不受周圍的大氣波動(dòng)影響,且該保護(hù)裝置將金屬雜質(zhì)檢測樣品與外部污染源隔離,提升了檢測的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。 |
