一種用于PVD離子源靶材的水冷結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022853773.8 申請日 -
公開（公告）號 CN214361646U 公開（公告）日 2021-10-08
申請公布號 CN214361646U 申請公布日 2021-10-08
分類號 C23C14/32（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 侯瑞;張鴻;周博文;張鵬蛟;李文亮;李俊周;孫安 申請（專利權(quán)）人 鈹威鏑新材料（南京）有限公司
代理機構(gòu) 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 顧翰林
地址 210000 江蘇省南京市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)紅楓科技園B4棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種用于PVD離子源靶材的水冷結(jié)構(gòu)，屬于PVD技術(shù)領(lǐng)域，包括依次設(shè)置的銅靶座、渦旋盤、靶座絕緣墊和里蓋，靶座絕緣墊為環(huán)形，里蓋設(shè)有插孔，一根通水管的其中一端穿過里蓋的插孔并與渦旋盤固定連接；銅靶座與渦旋盤之間設(shè)有第一水流通道，第一水流通道由渦旋通道和與渦旋通道連通的反流通道構(gòu)成，渦旋盤與里蓋之間設(shè)有第二水流通道，通水管內(nèi)設(shè)進水孔和出水孔，渦旋盤設(shè)有第一連通孔和第二連通孔，進水孔通過第一連通孔與渦旋通道連通，反流通道通過第二連通孔與第二水流通道連通，通水管設(shè)有連通第二水流通道與出水孔的第三連通孔。本實用新型是一種冷卻效果好、易加工、易安裝且易拆卸的PVD離子源靶材的水冷結(jié)構(gòu)。