一種新型可調(diào)基片架

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201120227134.9 申請日 -
公開（公告）號 CN202175710U 公開（公告）日 2012-03-28
申請公布號 CN202175710U 申請公布日 2012-03-28
分類號 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 邵新宇;張國軍;張華書;黃禹;陳宇;劉高水;李海洲;王炳勇 申請（專利權(quán)）人 東莞市華科制造工程研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 譚一兵
地址 523808 廣東省東莞市松山湖科技產(chǎn)業(yè)園區(qū)科技九路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種新型可調(diào)基片架，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，包括框架，框架包括頂橫梁、側(cè)立柱和底座，框架為前后并排雙層的矩形結(jié)構(gòu)，框架上設(shè)有基片固定裝置，基片固定裝置設(shè)有上梁和下梁，上梁和下梁的兩端均固定連接滑動件，上梁設(shè)有一對上卡爪，上卡爪與上梁活動連接，下梁設(shè)有一對下卡爪，下卡爪與下梁活動連接，側(cè)立柱上設(shè)有滑槽條，滑槽條與滑動件相吻合匹配；頂橫梁開設(shè)有導(dǎo)槽，導(dǎo)槽中設(shè)有軸承；底座的下方設(shè)有絕緣板，絕緣板的下方設(shè)有導(dǎo)軌座和與導(dǎo)軌座相匹配的圓導(dǎo)軌；本實用新型操作方便，安裝高度和寬度均可在可調(diào)范圍內(nèi)調(diào)動，在不增加真空鍍膜腔空間大小的情況下，使基片架通用可調(diào)，滿足不同材料、不同規(guī)格大小的基片安裝。