聚焦電位器基片的清洗方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200410041069.5 申請日 -
公開（公告）號 CN100353466C 公開（公告）日 2007-12-05
申請公布號 CN100353466C 申請公布日 2007-12-05
分類號 H01C10/00(2006.01);H01C17/00(2006.01);B08B3/04(2006.01);B08B3/12(2006.01);B08B3/02(2006.01);B08B3/00(2006.01) 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 盛建中 申請（專利權）人 蘇州雙林電腦器件有限公司
代理機構 蘇州創(chuàng)元專利商標事務所有限公司 代理人 蘇州雙林電腦器件有限公司;蘇州雙林塑膠電子有限公司
地址 215128江蘇省蘇州市吳中區(qū)石湖西路166－168號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種聚焦電位器基片的清洗方法，它用高純水取代目前使用的三氯乙烯和三氯乙烷作為清洗液，用超聲波進行清洗，使生產過程和清洗產品無污染，不僅降低了生產成本，而且提高了產品的可靠性，滿足了客戶對聚焦電位器的環(huán)保要求。