一種磁控濺射過(guò)程中穩(wěn)定傳輸基片載具的裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201920585963.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN209778989U | 公開(kāi)（公告）日 | 2019-12-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN209778989U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-12-13 |
| 分類號(hào) | C23C14/56（2006.01）; C23C14/50（2006.01）; C23C14/35（2006.01）; H01L31/18（2006.01） | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 李貴成; 鐘莉霞; 梅小艷; 廖精巧; 李紅有; 楊子龍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 瀘州金能移動(dòng)能源科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都華風(fēng)專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 瀘州金能移動(dòng)能源科技有限公司 |
| 地址 | 646000 四川省瀘州市瀘州高新區(qū)酒谷大道5段19號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種磁控濺射過(guò)程中穩(wěn)定傳輸基片載具的裝置，包括：腔體、設(shè)在腔體底部的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、滾動(dòng)設(shè)置在傳動(dòng)機(jī)構(gòu)上的載具、設(shè)在載具一側(cè)的永磁體、設(shè)在載具一側(cè)且與永磁體不同側(cè)的靶材；所述載具包括：載物板、設(shè)在載物板上的側(cè)滑軌、固定在腔體頂部且與所述側(cè)滑軌配合的若干個(gè)第一傳動(dòng)輪；通過(guò)采用該裝置，避免了載物板因移動(dòng)中左右晃動(dòng)，實(shí)現(xiàn)所述載具的穩(wěn)定傳輸，從而避免基片上沉積的膜厚度明顯變化不均勻，不影響基片的正常生產(chǎn)效率的同時(shí)，提高了基片的生產(chǎn)質(zhì)量，增強(qiáng)了生產(chǎn)效益。 |
