一種遠(yuǎn)程等離子體源RPS腔體結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022752230.7 申請日 -
公開（公告）號 CN213459632U 公開（公告）日 2021-06-15
申請公布號 CN213459632U 申請公布日 2021-06-15
分類號 H01J37/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 劉文豐;崔婷婷;皮昌全 申請（專利權(quán)）人 江蘇神州半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京輕創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 潘云峰
地址 225000 江蘇省揚(yáng)州市邗江區(qū)蜀崗西路19號1
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開一種遠(yuǎn)程等離子體源RPS腔體結(jié)構(gòu)，包括進(jìn)氣腔一端設(shè)有進(jìn)氣口，另一端底部設(shè)有點(diǎn)火口；進(jìn)氣噴嘴設(shè)在進(jìn)氣口；電離腔豎向設(shè)在點(diǎn)火口上方，底端與進(jìn)氣腔另一端頂部連通設(shè)置，口徑大于進(jìn)氣腔口徑；出氣腔橫向設(shè)置在電離腔上方，一端與電離腔頂端連通，另一端設(shè)有排氣口；回流腔連通電離腔頂端與進(jìn)氣腔靠近進(jìn)氣口一側(cè)頂部。本實(shí)用新型氣體由進(jìn)氣口進(jìn)入經(jīng)過進(jìn)氣腔到達(dá)電離腔，點(diǎn)火發(fā)生電離反應(yīng)生成氟離子，通過出氣口排出至反應(yīng)室內(nèi)，未電離氣體由回流腔回流至進(jìn)氣腔內(nèi)；電離腔的口徑大于進(jìn)氣腔，氣體在進(jìn)入電離腔內(nèi)部時(shí)降低了壓力，降低了F原子因激烈的碰撞重新組合在一起的概率，使F原子剩余百分比增加，提高了清潔的效率。