一種鋁電解槽鋁液穩(wěn)流裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202121754558.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN215757667U | 公開(公告)日 | 2022-02-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN215757667U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-08 |
分類號(hào) | C25C3/20(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
發(fā)明人 | 毛宇;班允剛;毛繼紅;劉靖;李揚(yáng);楊曉玲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 東北大學(xué)設(shè)計(jì)研究院(有限公司) |
代理機(jī)構(gòu) | 沈陽東大知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 寧佳 |
地址 | 110166遼寧省沈陽市和平區(qū)和慶街70號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型的一種鋁電解槽鋁液穩(wěn)流裝置,屬于鋁電解設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,該穩(wěn)流單元設(shè)置于鋁電解槽內(nèi)襯的上方,包括若干組穩(wěn)流單元;鋁電解槽內(nèi)襯上方包括間斷設(shè)置的陰極炭塊和陰極炭塊間設(shè)置的炭間糊,陰極炭塊和炭間糊表面存在內(nèi)襯表面磨損凹坑;穩(wěn)流單元底表面設(shè)有若干底部凸起,以與內(nèi)襯表面磨損凹坑相匹配。該穩(wěn)流裝置可在鋁電解槽運(yùn)行過程中,改善并優(yōu)化鋁液流場(chǎng)分布狀態(tài),改善電流分布均勻性,提高穩(wěn)定性的同時(shí)大幅延長(zhǎng)槽內(nèi)襯使用壽命,延長(zhǎng)大修周期,同時(shí)流動(dòng)的穩(wěn)定帶來了極距的降低和電流效率的提高,進(jìn)一步增強(qiáng)運(yùn)行經(jīng)濟(jì)性且工業(yè)實(shí)施簡(jiǎn)單易行,造價(jià)成本低,市場(chǎng)前景廣。 |
