一種量子點(diǎn)薄膜及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201711303875.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108054267A 公開（公告）日 2018-05-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN108054267A 申請(qǐng)公布日 2018-05-18
分類號(hào) H01L33/50;B82Y30/00 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李剛;孫書政;徐良霞;劉偉;唐海江;張彥 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 寧波江北激智新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京策略律師事務(wù)所 代理人 寧波江北激智新材料有限公司
地址 315000 浙江省寧波市江北區(qū)慶豐路888號(hào)、暢陽(yáng)路299號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜領(lǐng)域，更具體的涉及一種量子點(diǎn)薄膜及其制備方法。為了解決目前量子點(diǎn)膜的輝度較低的問題，本發(fā)明提供一種量子點(diǎn)薄膜及其制備方法。所述量子點(diǎn)薄膜依次包括上阻隔層、量子點(diǎn)膠層和下阻隔層，所述量子點(diǎn)膠層包括改性二氧化鈦粒子和量子點(diǎn)。本發(fā)明提供的量子點(diǎn)膜具有較好的膜面外觀和更高的輝度表現(xiàn)。同時(shí)本發(fā)明提供的量子點(diǎn)膜所需量子點(diǎn)原料較少，成本上更有優(yōu)勢(shì)。