一種無掩膜光刻機的激光均勻性調(diào)制裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021870607.2 申請日 -
公開（公告）號 CN213023941U 公開（公告）日 2021-04-20
申請公布號 CN213023941U 申請公布日 2021-04-20
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 王群 申請（專利權）人 江蘇九迪激光裝備科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 210000江蘇省徐州市邳州市岔河鎮(zhèn)岔河電子產(chǎn)業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種無掩膜光刻機的激光均勻性調(diào)制裝置，包括激光調(diào)節(jié)頭，所述激光調(diào)節(jié)頭的底部固定連有聚焦調(diào)節(jié)圈，所述聚焦調(diào)節(jié)圈的底部固定連接有聚焦頭，所述激光調(diào)節(jié)頭的表面套接有可以上下位移的定位罩圈。該無掩膜光刻機的激光均勻性調(diào)制裝置，采用壓縮空氣機為進氣管提供壓縮空氣，彈性氣囊抵住定位活動齒，插入聚焦調(diào)節(jié)圈上調(diào)節(jié)圓環(huán)表面的凹槽內(nèi)部，由于壓縮空氣突然的連通，多個定位活動齒基本等同于同時插入凹槽，因此在插入的過程中調(diào)節(jié)圓環(huán)不產(chǎn)生位移，該光刻機頭在位移時，調(diào)好的聚焦鏡片組不會松動，激光束始終保持一個焦點，從而避免降低光刻精度，該定位罩圈采用上下滑動的方式，便于下次調(diào)節(jié)聚焦大小，同時也便于固定。??