一種顯示基板及其制造方法、顯示裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010426217.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111564454B | 公開(公告)日 | 2022-07-12 |
申請公布號 | CN111564454B | 申請公布日 | 2022-07-12 |
分類號 | H01L27/12(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L21/77(2017.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 胡迎賓;趙策;王明;丁遠(yuǎn)奎;宋威;王慶賀 | 申請(專利權(quán))人 | 合肥鑫晟光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 100015北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本公開提供了一種顯示基板及其制造方法、顯示裝置,該顯示基板包括:襯底基板:緩沖層和有源層,有源層形成于緩沖層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè),緩沖層和有源層形成有開口區(qū);柵絕緣層和柵金屬層圖形,形成于開口區(qū)內(nèi);層間介質(zhì)層,形成在緩沖層和有源層的遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè),層間介質(zhì)層上形成過孔,開口區(qū)在襯底基板上的正投影落入過孔在襯底基板上的正投影內(nèi),過孔暴露出有源層的一部分和柵金屬層圖形;源漏金屬層圖形,形成在層間介質(zhì)層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè),通過過孔與有源層及柵金屬層圖形連接。本公開提供的顯示基板及其制造方法、顯示裝置,能夠降低層間介質(zhì)層的過孔過刻量,減小過孔處阻抗,改善壓降現(xiàn)象,保證TFT正常工作。 |
