一種改善垂直腔面發(fā)射激光器氧化均勻性的濕法氧化工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911281608.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110994359A 公開(kāi)（公告）日 2020-04-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN110994359A 申請(qǐng)公布日 2020-04-10
分類號(hào) H01S5/183 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 代露;肖黎明 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 武漢光安倫光電技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯澤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 武漢光安倫光電技術(shù)有限公司
地址 430074 湖北省武漢市東湖開(kāi)發(fā)區(qū)光谷金融港B26-802
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種改善垂直腔面發(fā)射激光器氧化均勻性的濕法氧化工藝，本氧化工藝包括如下步驟：氧化前通入H2，對(duì)片子表面進(jìn)行預(yù)處理，使片子表面活化，這樣有利于后續(xù)氧化的均勻性，另外，氧化步驟完成后，繼續(xù)保溫一段時(shí)間，持續(xù)通入N2，直到溫度降至常溫，氧化結(jié)束，這樣持續(xù)通入N2的目的是去除反應(yīng)壞境中的H2，減少H的鈍化作用并對(duì)片子進(jìn)行退火，同時(shí)在氧化過(guò)程中，水蒸汽流量用液體流量計(jì)精準(zhǔn)控制。此外，此種氧化工藝可單片氧化，也可實(shí)現(xiàn)多片氧化同時(shí)進(jìn)行。本發(fā)明提供的氧化工藝可以很好的實(shí)現(xiàn)均勻氧化。