一種改善垂直腔面發(fā)射激光器氧化均勻性的濕法氧化工藝
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201911281608.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN110994359A | 公開（公告）日 | 2020-04-10 |
| 申請公布號 | CN110994359A | 申請公布日 | 2020-04-10 |
| 分類號 | H01S5/183 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 代露;肖黎明 | 申請（專利權(quán)）人 | 武漢光安倫光電技術(shù)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 武漢光安倫光電技術(shù)有限公司 |
| 地址 | 430074 湖北省武漢市東湖開發(fā)區(qū)光谷金融港B26-802 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種改善垂直腔面發(fā)射激光器氧化均勻性的濕法氧化工藝，本氧化工藝包括如下步驟：氧化前通入H2，對片子表面進行預處理，使片子表面活化，這樣有利于后續(xù)氧化的均勻性，另外，氧化步驟完成后，繼續(xù)保溫一段時間，持續(xù)通入N2，直到溫度降至常溫，氧化結(jié)束，這樣持續(xù)通入N2的目的是去除反應壞境中的H2，減少H的鈍化作用并對片子進行退火，同時在氧化過程中，水蒸汽流量用液體流量計精準控制。此外，此種氧化工藝可單片氧化，也可實現(xiàn)多片氧化同時進行。本發(fā)明提供的氧化工藝可以很好的實現(xiàn)均勻氧化。 |
