小面積指紋圖像拼接方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010530858.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111429359A 公開(kāi)（公告）日 2020-07-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN111429359A 申請(qǐng)公布日 2020-07-17
分類號(hào) G06T3/40;G06K9/00 分類 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù);
發(fā)明人 楊密凱;韓鵬飛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市諾賽特系統(tǒng)有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 518000 廣東省深圳市龍華新區(qū)龍華街道清祥路清湖工業(yè)園寶能科技園7棟B座11樓JKLM單位
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及特征比對(duì)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種小面積指紋圖像拼接方法、裝置、設(shè)備及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其包括：獲取待比對(duì)指紋圖像，對(duì)圖像進(jìn)行圖像預(yù)處理，分離成前景區(qū)域與背景區(qū)域；計(jì)算所述前景區(qū)域的灰度方差并根據(jù)所述灰度方差進(jìn)行圖像質(zhì)量評(píng)分，得到待比對(duì)指紋圖像的質(zhì)量評(píng)分；從待比對(duì)指紋圖像提取預(yù)設(shè)個(gè)數(shù)的特征點(diǎn)；基于特征點(diǎn)與參照指紋模板的特征點(diǎn)進(jìn)行特征比對(duì)，判斷待比對(duì)指紋圖像是否與參照指紋模板相似；若是，確定待比對(duì)指紋圖像與參照指紋模板之間的相似區(qū)域與非相似區(qū)域并進(jìn)行拼接，得到新的參照指紋模板。本發(fā)明依據(jù)圖像質(zhì)量評(píng)分來(lái)保證每次更新進(jìn)去的特征點(diǎn)來(lái)自圖像質(zhì)量更高的圖像，進(jìn)而能逐漸增強(qiáng)和改善參照指紋模板的穩(wěn)定性。