一種具有超高隔離電壓的智能型超結(jié)MOS及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110532789.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113241371A | 公開(公告)日 | 2021-08-10 |
申請公布號 | CN113241371A | 申請公布日 | 2021-08-10 |
分類號 | H01L29/06(2006.01)I;H01L27/06(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 何軍;胡興正;薛璐;劉海波 | 申請(專利權)人 | 滁州華瑞微電子科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 南京中擎科智知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 黃智明 |
地址 | 239000安徽省滁州市南譙區(qū)雙廟路與興隆路交叉口西南側(cè) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及超結(jié)MOS制造領域,公開了一種具有超高隔離電壓的智能型超結(jié)MOS及其制造方法,其技術方案要點是包括集成連接在一個芯片上的主MOS、電阻R以及若干功能MOS,所述功能MOS設置在所述主MOS的范圍內(nèi),所述功能MOS在芯片上的分布包括功能MOS隔離區(qū)和設置在所述功能隔離區(qū)內(nèi)部的功能MOS有源區(qū),所述功能MOS隔離區(qū)包括相鄰間隔且呈環(huán)形設置的P型摻雜區(qū)和N型摻雜區(qū),所述功能MOS有源區(qū)和主MOS包括若干組相互平行且間隔設置的P型摻雜區(qū)和N型摻雜區(qū)。 |
