一種低閾值電壓SiC圓形柵VDMOSFET功率器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202120317492.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214378458U | 公開(公告)日 | 2021-10-08 |
申請公布號 | CN214378458U | 申請公布日 | 2021-10-08 |
分類號 | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/16(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 施廣彥;李昀佶 | 申請(專利權(quán))人 | 泰科天潤半導體科技(北京)有限公司 |
代理機構(gòu) | 福州市鼓樓區(qū)京華專利事務所(普通合伙) | 代理人 | 林燕 |
地址 | 100000北京市海淀區(qū)西小口路66號中關(guān)村東升科技園B區(qū)1號樓106A、113A、115A、117A、119A、121A | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供了一種低閾值電壓SiC圓形柵VDMOSFET功率器件,包括縱向自下而上的漏極、N型重摻襯底層、N型輕摻外延層、P型阱區(qū)、源極和柵極;所述柵極為圓形;整個柵極呈圓柱形,其除頂部外均被高k介質(zhì)包圍;所述P型阱區(qū)上設(shè)有介質(zhì)槽,所述介質(zhì)槽縱向深度小于P型阱區(qū)深度;所述源極以及漏極均設(shè)于所述介質(zhì)槽內(nèi);柵極與源極接觸部分呈現(xiàn)自然過渡,不存在有尖銳角度的情況,不容易發(fā)生電荷積累而造成的擊穿問題,提高了VDMOSFET的可靠性。 |
