一種高穩(wěn)定性雙溫區(qū)大容積爐源裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022826175.1 申請日 -
公開（公告）號 CN213866397U 公開（公告）日 2021-08-03
申請公布號 CN213866397U 申請公布日 2021-08-03
分類號 C23C14/26（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張朱鋒;管家月;謝斌平 申請（專利權(quán)）人 費勉儀器科技（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京瑞華騰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 梁金娟
地址 210000江蘇省南京市江北新區(qū)智達(dá)路6號智城園區(qū)3號樓4層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種高穩(wěn)定性雙溫區(qū)大容積爐源裝置，包括用于與腔體連接的真空法蘭，真空法蘭的一側(cè)設(shè)置有多個熱電偶饋通，真空法蘭的另一側(cè)通過支撐桿固定有支撐圓盤，支撐圓盤的上方固定有中空的外筒，外筒的內(nèi)壁設(shè)置有下溫區(qū)加熱組件和上溫區(qū)加熱組件，加熱組件包括多個固定片、設(shè)置在固定片上的方槽以及插接在方槽內(nèi)的加熱板，外筒的內(nèi)部設(shè)置有坩堝，且下溫區(qū)加熱組件和上溫區(qū)加熱組件分別位于坩堝外表面的下部和上部，支撐圓盤上設(shè)置有上溫區(qū)熱電偶和下溫區(qū)熱電偶。本實用新型在加熱區(qū)域采用多個固定片對整個加熱板進(jìn)行固定，可以得到更好的真空；結(jié)構(gòu)簡單，減少因為零件損壞而產(chǎn)生更換幾率；固定片上設(shè)置的方槽使得加熱板的安裝更加簡單。