一種摻雜銀的氧化錫靶材及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910688910.6 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN110257786B 公開（公告）日 2021-04-06
申請公布號(hào) CN110257786B 申請公布日 2021-04-06
分類號(hào) C22C29/12(2006.01)I;B22F3/10(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I;B22F3/04(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張科;陳欽忠;葉開滿;虞志軒 申請（專利權(quán)）人 福建阿石創(chuàng)新材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京高沃律師事務(wù)所 代理人 薛紅凡
地址 350200福建省福州市長樂市航城街道琴江村太平里169號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種摻雜銀的氧化錫靶材及其制備方法和應(yīng)用，屬于靶材制備技術(shù)領(lǐng)域。由包括Ag粉體和SnO2粉體制得，所述Ag粉體和SnO2粉體的質(zhì)量比為1:50～1:100。本發(fā)明在氧化錫靶材中摻雜Ag，不僅能改善SnO2基靶材的燒結(jié)特性，而且能提高靶材的密度，靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好，能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。此外，還能提高靶材的抗氧化性，增加薄膜的使用壽命。??