一種化學氣相沉積及退火連續(xù)制程裝置、方法和應用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110783355.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113564558B | 公開(公告)日 | 2022-03-04 |
申請公布號 | CN113564558B | 申請公布日 | 2022-03-04 |
分類號 | C23C16/14(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/02(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 林文富;陳平陽;談益強;林冠廷;邱琦朝 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江陶特容器科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 浙江千克知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 沈濤 |
地址 | 314400浙江省嘉興市海寧市周王廟鎮(zhèn)之江路30號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及化學氣相沉積領域,尤其涉及一種化學氣相沉積及退火連續(xù)制程裝置,其包括:用于進行氣相沉積以及退火步驟的反應室、用于向反應室內(nèi)部輸送反應氣體的氣體閥件模塊、用于向外排放反應室內(nèi)部的制程尾氣并調(diào)節(jié)反應室內(nèi)部的真空度的壓力控制模塊以及對壓力控制模塊輸送的制程尾氣進行純化的尾氣循環(huán)模塊。本發(fā)明通過在同一設備中同時整合化學氣相沉積裝置以及退火裝置成一體,從而能夠大大減少企業(yè)購置生產(chǎn)設備的成本,并能夠有效縮短鎢金屬物料的生產(chǎn)時間,增加了生產(chǎn)效率,提升機臺利用率,還能夠提升生產(chǎn)原物料的利用率,有效節(jié)約生產(chǎn)成本,從而能夠在回收報廢離子源鎢制腔體中起到良好的應用。 |
