一種用于半導(dǎo)體加工的固態(tài)前驅(qū)體源升華裝置及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111069799.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113529053B 公開（公告）日 2021-12-28
申請公布號 CN113529053B 申請公布日 2021-12-28
分類號 C23C16/448（2006.01）I;B01D7/00（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 談益強;朱夢玉;薛劍 申請（專利權(quán)）人 浙江陶特容器科技股份有限公司
代理機構(gòu) 杭州杭誠專利事務(wù)所有限公司 代理人 汪利勝
地址 314400浙江省嘉興市海寧市周王廟鎮(zhèn)之江路30號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于半導(dǎo)體加工的固態(tài)前驅(qū)體源升華裝置及方法，旨在解決固態(tài)前驅(qū)體源的揮發(fā)升華不穩(wěn)定，固態(tài)前驅(qū)體源的利用率低的不足。該發(fā)明包括存儲箱、安裝在存儲箱內(nèi)的若干托盤、安裝在托盤底部的電熱溫控板，托盤上密布若干用于裝載固態(tài)前驅(qū)體源的儲料槽，儲料箱形成蛇形的通氣流道，儲料箱上設(shè)置載氣進口、混合蒸汽出口，通氣流道兩端分別與載氣進口、混合蒸汽出口連通。這種電熱式固態(tài)前驅(qū)體源存儲升華裝置能為固態(tài)前驅(qū)體源的揮發(fā)升華提供均勻的穩(wěn)定熱能，并且杜絕了低阻通道現(xiàn)象的形成，對一些易板結(jié)的且具有一定蒸汽壓的固態(tài)前驅(qū)體源仍然可以利用，在提供穩(wěn)定濃度的固態(tài)前驅(qū)體源蒸汽同時提高了固態(tài)前驅(qū)體源的利用率。