一種電阻蒸發(fā)器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201821143338.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN208917287U | 公開(公告)日 | 2019-05-31 |
申請公布號 | CN208917287U | 申請公布日 | 2019-05-31 |
分類號 | C23C14/26(2006.01)I; C23C14/54(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 施戈; 李長棟; 謝實(shí)洋 | 申請(專利權(quán))人 | 北京泰科諾科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京高沃律師事務(wù)所 | 代理人 | 王戈 |
地址 | 100000 北京市昌平區(qū)崔村鎮(zhèn)西辛峰村南6區(qū)1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種電阻蒸發(fā)器。該電阻蒸發(fā)器的蒸發(fā)器本體通過法蘭接口設(shè)置在真空設(shè)備內(nèi),真空設(shè)備用于使蒸發(fā)器本體處于真空環(huán)境中;水冷電極與蒸發(fā)器本體連接,并穿過法蘭接口延伸至真空設(shè)備外;蒸發(fā)器本體包括坩堝、加熱器、屏蔽層、控溫?zé)犭娕己蚉ID控制器;坩堝的側(cè)面的外壁上包裹有加熱器,加熱器通過水冷電極與真空設(shè)備外的加熱電源電連接;加熱器的外側(cè)對應(yīng)設(shè)置多層屏蔽層;控溫?zé)犭娕嫉囊欢伺cPID控制器電連接,另一端穿過屏蔽層與加熱器對應(yīng)設(shè)置;PID控制器與加熱電源電連接。該電阻蒸發(fā)器能夠?qū)ζ渌幁h(huán)境的溫度進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控,保證了坩堝內(nèi)溫度的穩(wěn)定,提高了待蒸發(fā)物質(zhì)蒸發(fā)速率的穩(wěn)定性。 |
