一種離子鍍膜用引弧裝置及離子鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911028871.3 申請日 -
公開（公告）號 CN110565055A 公開（公告）日 2019-12-13
申請公布號 CN110565055A 申請公布日 2019-12-13
分類號 C23C14/32（2006.01） 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 彭建; 田琳; 夏虎 申請（專利權）人 北京泰科諾科技有限公司
代理機構 北京高沃律師事務所 代理人 趙曉琳
地址 102212 北京市昌平區(qū)崔村鎮(zhèn)西辛峰村南6區(qū)1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種離子鍍膜用引弧裝置及離子鍍膜裝置，涉及離子鍍膜技術領域，包括引弧鉤、連接桿、波紋管、驅動裝置和密封絕緣件，離子鍍膜裝置的真空腔室側壁上設有一安裝孔，密封絕緣件固定在安裝孔內并與安裝孔形成密封連接，驅動裝置的輸出軸穿過密封絕緣件并與連接桿的一端固定連接，驅動裝置能夠驅動連接桿沿軸向作往復運動，波紋管的一端與密封絕緣件的一端固定連接、另一端固定套設于連接桿外并與連接桿形成密封連接，連接桿穿過波紋管與引弧鉤固定連接；離子鍍膜裝置包括真空腔室和上述的離子鍍膜用引弧裝置。本發(fā)明中，驅動裝置帶動引弧鉤運動，作用力大，不易粘鉤，設置波紋管進行靜態(tài)密封，真空腔室密封性好、真空不易被破壞。