一種絕緣材料管道內(nèi)壁鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821135499.7 申請日 -
公開（公告）號 CN208440691U 公開（公告）日 2019-01-29
申請公布號 CN208440691U 申請公布日 2019-01-29
分類號 C23C14/34;C23C14/04 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 施戈;李長棟;田琳;夏虎;謝實洋 申請（專利權(quán)）人 北京泰科諾科技有限公司
代理機構(gòu) 北京高沃律師事務(wù)所 代理人 王戈
地址 100000 北京市昌平區(qū)崔村鎮(zhèn)西辛峰村南6區(qū)1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種絕緣材料管道內(nèi)壁鍍膜裝置。所述裝置包括：二級濺射電極和旋轉(zhuǎn)設(shè)備；二級濺射電極的陰極靶材沿軸向穿設(shè)在待鍍膜絕緣材料管道內(nèi)，旋轉(zhuǎn)設(shè)備與待鍍膜絕緣材料管道的一端固定連接；二級濺射電極與旋轉(zhuǎn)設(shè)備均設(shè)置在真空設(shè)備內(nèi)，真空設(shè)備用于使裝置處于真空環(huán)境。本實用新型適用于對小尺寸內(nèi)徑的絕緣材料管道內(nèi)壁進(jìn)行鍍膜，且鍍膜膜層厚度均勻、結(jié)合力一致。