化學氣相沉積裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510209528.4 申請日 -
公開（公告）號 CN104789944B 公開（公告）日 2017-06-20
申請公布號 CN104789944B 申請公布日 2017-06-20
分類號 C23C16/458(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 楊肸曦 申請（專利權）人 北京精誠鉑陽光電設備有限公司
代理機構 北京康信知識產(chǎn)權代理有限責任公司 代理人 趙囡囡;吳貴明
地址 100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)錦繡街7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種化學氣相沉積裝置，化學氣相沉積裝置包括：第一殼體，具有第一內腔；輸送軸，穿設在第一殼體上并伸入至第一內腔中；膠圈，膠圈設置在輸送軸的位于第一殼體內的一端上，還包括：第二殼體，具有第二內腔以及與第二內腔連通的開口面，第二殼體固定在第一殼體內，并套設在輸送軸的位于第一殼體內的一端上；封堵部，封堵部可開合地設置在開口面處；驅動機構，封堵部與輸送軸通過驅動機構連接，輸送軸的位于第一殼體內的一端具有伸出開口面的伸出位置以及縮回至第二殼體內的縮回位置，輸送軸的伸縮帶動驅動機構驅動封堵部開閉。本發(fā)明的技術方案有效地解決了現(xiàn)有技術中膠圈和傳動軸暴露在反應腔室內容易沉積膜層的問題。