一種蒸發(fā)源的匹配方法及其裝置、鍍膜設(shè)備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910562480.3 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112144015A | 公開（公告）日 | 2020-12-29 |
| 申請公布號(hào) | CN112144015A | 申請公布日 | 2020-12-29 |
| 分類號(hào) | C23C14/24(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 龐浩;何嘉 | 申請（專利權(quán)）人 | 北京精誠鉑陽光電設(shè)備有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)興盛街17號(hào)1幢1-2層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種蒸發(fā)源的匹配方法及其裝置、鍍膜設(shè)備，用以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)匹配蒸發(fā)源和鍍膜設(shè)備的目的，從而避免采用人工進(jìn)行匹配造成工作量大，且工作效率較低的問題。一種蒸發(fā)源的匹配方法，包括：確定第一標(biāo)識(shí)信息，以及與所述第一標(biāo)識(shí)信息對(duì)應(yīng)的蒸發(fā)源設(shè)置位置，所述第一標(biāo)識(shí)信息用于標(biāo)識(shí)鍍膜設(shè)備中蒸發(fā)源設(shè)置位置；根據(jù)所述第一標(biāo)識(shí)信息，以及預(yù)設(shè)的標(biāo)識(shí)信息之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系，確定與所述第一標(biāo)識(shí)信息對(duì)應(yīng)的第二標(biāo)識(shí)信息，所述第二標(biāo)識(shí)信息用于標(biāo)識(shí)蒸發(fā)源；根據(jù)所述第二標(biāo)識(shí)信息，確定與所述第二標(biāo)識(shí)信息對(duì)應(yīng)的蒸發(fā)源，并控制將所述蒸發(fā)源匹配在所述蒸發(fā)源設(shè)置位置。?? |
