一種垂直膜面方向具有硬磁性能且在面內(nèi)方向具有軟磁性能的磁性薄膜及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110708000.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113539607A | 公開(公告)日 | 2021-10-22 |
申請公布號 | CN113539607A | 申請公布日 | 2021-10-22 |
分類號 | H01F10/16(2006.01)I;H01F10/14(2006.01)I;H01F41/18(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 于廣華;劉冕宸;徐秀蘭;馮春;滕蛟;李明華 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東麥格智芯精密儀器有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京市廣友專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 | 代理人 | 張仲波 |
地址 | 528200廣東省佛山市南海區(qū)大瀝鎮(zhèn)鹽步廣佛路橫江路段65號之五二樓245室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種垂直膜面方向具有硬磁性能且在面內(nèi)方向具有軟磁性能的磁性薄膜及其制備方法,屬于磁性薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明所述磁性薄膜是利用磁控濺射儀于室溫下在基底材料上沉積而成,包括從下而上依次層疊的基底、AlNiCo永磁合金和Ag。所述制備方法包括:利用磁控濺射儀于室溫條件下通過直流濺射金屬靶材,在基底材料上依次沉積AlNiCo永磁合金和Ag;再將薄膜材料從磁控濺射儀中取出,放入超高真空退后爐中,在真空度優(yōu)于5.0×10Torr的條件下進行退火處理,退火溫度為750℃?900℃。利用該制備方法得到的磁性薄膜沿面內(nèi)方向具有軟磁性能且同時沿具垂直膜面方向有硬磁性能,拓寬了AlNiCo薄膜材料的使用性能,不僅可以用作磁碼盤材料,還可用作磁傳感器材料。 |
