一種高溫氣體處理裝置及處理方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011430464.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114608347A | 公開(公告)日 | 2022-06-10 |
申請公布號 | CN114608347A | 申請公布日 | 2022-06-10 |
分類號 | F28C3/06(2006.01)I;B01D50/40(2022.01)I | 分類 | 一般熱交換; |
發(fā)明人 | 李紅海;龍曉東;郭進(jìn)軍;高瑞恒;陳永進(jìn);李振祥 | 申請(專利權(quán))人 | 航天長征化學(xué)工程股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京金信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 101111北京市北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)路東區(qū)經(jīng)海四路141號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本公開實(shí)施例提供了一種高溫氣體處理裝置,包括殼體、通過安裝板設(shè)置于殼體內(nèi)的冷卻裝置、置于殼體內(nèi)壁和冷卻裝置之間的分離裝置,殼體的頂部設(shè)有氣體入口,底部設(shè)有灰水池;冷卻裝置的內(nèi)部形成有冷卻區(qū),氣體入口與冷卻區(qū)連通,分離裝置處形成有分離區(qū),分離區(qū)的一側(cè)與冷卻區(qū)相鄰且連通,分離區(qū)的另一側(cè)對應(yīng)的殼體位置設(shè)置有氣體出口。本公開實(shí)施例的高溫氣體處理裝置,將分離裝置設(shè)置于冷卻裝置和殼體的內(nèi)壁之間,充分地利用設(shè)備的內(nèi)部空間,其通過冷卻裝置控制溫度以實(shí)現(xiàn)高溫氣體的降溫,提高降溫效率,并進(jìn)一步通過分離裝置除去氣體中的飛灰,提高凈化效率,方便實(shí)現(xiàn)自動控制,保障設(shè)備溫度穩(wěn)定,進(jìn)而確保設(shè)備的長期穩(wěn)定運(yùn)行。 |
