一種紅外光學(xué)產(chǎn)品復(fù)合增透膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011644324.0 申請日 -
公開（公告）號 CN112831769A 公開（公告）日 2021-05-25
申請公布號 CN112831769A 申請公布日 2021-05-25
分類號 C23C16/02;C23C16/26;C23C16/32;G02B1/115 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李光存;于金鳳;任麗;朱劉 申請（專利權(quán)）人 安徽中飛科技有限公司
代理機構(gòu) 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 顏希文
地址 511517 廣東省清遠(yuǎn)市高新區(qū)百嘉工業(yè)園27-9號B區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種紅外光學(xué)產(chǎn)品復(fù)合增透膜的制備方法，屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明所述紅外光學(xué)產(chǎn)品復(fù)合增透膜的制備方法通過ECR?MPCVD法在硒化鋅或硫化鋅基材上進行DLC膜和GeC膜的交替沉積鍍膜，不僅操作步驟簡單可控，同時產(chǎn)品不會受到交叉污染，所得產(chǎn)品均勻致密，可滿足紅外光學(xué)鍍膜所需增透量及厚度。本發(fā)明還公開了所述紅外光學(xué)產(chǎn)品復(fù)合增透膜的制備方法制備得到的紅外光學(xué)產(chǎn)品復(fù)合增透膜，該產(chǎn)品具有優(yōu)異的折射率，符合實際需求的厚度，可實現(xiàn)8～12μm厚度的增透。