厚尺寸紅外光學(xué)材料的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011583651.X 申請日 -
公開（公告）號 CN112813411A 公開（公告）日 2021-05-18
申請公布號 CN112813411A 申請公布日 2021-05-18
分類號 C23C16/30;C23C16/44;C23C16/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉羊;于金鳳;王和風(fēng) 申請（專利權(quán)）人 安徽中飛科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京五洲洋和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張向琨
地址 511517 廣東省清遠(yuǎn)市高新區(qū)百嘉工業(yè)園27-9號B區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開提供了一種厚尺寸紅外光學(xué)材料的制備方法。其包括驟：（S1）：以化學(xué)氣相沉積法獲得的紅外光學(xué)材料為基板，研磨拋光；（S2）：對基板進(jìn)行等離子清洗；（S3）：將基板放置于化學(xué)氣相沉積爐的沉積室，向化學(xué)氣相沉積爐中的坩堝內(nèi)裝入反應(yīng)固體；（S4）：對化學(xué)氣相沉積爐進(jìn)行抽真空；（S5）：將沉積室溫度緩慢升至600?850℃之間；將坩堝的溫度緩慢升至500?800℃；（S6）：分別以反應(yīng)固體的蒸氣、反應(yīng)氣體為原料，以氬氣作為反應(yīng)固體的蒸氣和反應(yīng)氣體的載氣通入沉積室；（S7）：坩堝內(nèi)的反應(yīng)固體蒸發(fā)完畢，停止向沉積室通入反應(yīng)氣體，對沉積室和坩堝進(jìn)行降溫；（S8）：研磨拋光，然后放置于熱等靜壓爐中，恒溫恒壓處理時間為40?250h；（S9）：降溫降壓然后出爐。