一種衍射抑制光學(xué)元件及其制造方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110783151.9 申請日 -
公開（公告）號 CN113500801A 公開（公告）日 2021-10-15
申請公布號 CN113500801A 申請公布日 2021-10-15
分類號 B29D11/00（2006.01）I;G02B5/00（2006.01）I;G03F7/00（2006.01）I 分類 塑料的加工；一般處于塑性狀態(tài)物質(zhì)的加工;
發(fā)明人 趙輝 申請（專利權(quán)）人 嘉興馭光光電科技有限公司
代理機構(gòu) 北京方可律師事務(wù)所 代理人 吳艷;郝東暉
地址 314500浙江省嘉興市桐鄉(xiāng)市高橋大道1156號3幢8樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種衍射抑制光學(xué)元件及其制造方法，所述衍射抑制光學(xué)元件包括透明基底和形成在所述透明基底上的多個遮光區(qū)域，所述方法包括：提供壓印模版；利用壓印模版對涂覆于透明基底上的透明材料進(jìn)行壓印，從而在透明材料上形成多個凹槽；以及在壓印之后的透明材料上施加吸光材料，使得吸光材料填充在多個凹槽中并且露出其余部位的透明材料。根據(jù)本發(fā)明實施例，只需要一片壓印模版就可以使用微納米壓印復(fù)制工藝不斷地生產(chǎn)產(chǎn)品，可以實現(xiàn)批量、快速生產(chǎn)，產(chǎn)能易提升；而且，可以避免使用超高平整度玻璃以及昂貴的半導(dǎo)體工藝所需設(shè)備，有利于大大降低成本。