衍射光學(xué)元件設(shè)計(jì)方法以及激光投射模組

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110354273.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113219675A 公開（公告）日 2021-08-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN113219675A 申請(qǐng)公布日 2021-08-06
分類號(hào) G02B27/09（2006.01）I;G03B21/20（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 王燚言 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 嘉興馭光光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京方可律師事務(wù)所 代理人 吳艷;郝東暉
地址 314500浙江省嘉興市桐鄉(xiāng)市高橋大道1156號(hào)3幢8樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開了一種衍射光學(xué)元件設(shè)計(jì)方法，其包括：確定衍射光學(xué)元件在目標(biāo)平面上所要投射的第一目標(biāo)光場(chǎng)；確定零級(jí)衍射光場(chǎng)；從第一目標(biāo)光場(chǎng)中減去零級(jí)衍射光場(chǎng)，得到第二目標(biāo)光場(chǎng)；以及根據(jù)第二目標(biāo)光場(chǎng)，對(duì)衍射光學(xué)元件的相位分布進(jìn)行設(shè)計(jì)。本申請(qǐng)還公開了一種包括衍射光學(xué)元件的激光投射模組。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，可以在無需對(duì)衍射光學(xué)元件的設(shè)計(jì)理論和加工精度提出更高要求的情況下，巧妙地消除了DOE中的零級(jí)衍射影響。