玻璃晶片拋光方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910524678.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110238707A | 公開(公告)日 | 2019-09-17 |
申請公布號 | CN110238707A | 申請公布日 | 2019-09-17 |
分類號 | B24B1/00(2006.01)I; B24D11/00(2006.01)I; B24D11/02(2006.01)I; C09G1/02(2006.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 牟光遠; 楊超平 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江晶特光學科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人 | 王娜 |
地址 | 317700 浙江省臺州市椒江區(qū)開發(fā)大道東段2198號研發(fā)大樓301室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種玻璃晶片拋光方法,涉及晶片加工技術領域,本發(fā)明提供的玻璃晶片拋光方法,包括如下步驟:采用包含氧化鈰顆粒物的初拋光介質(zhì)進行初拋光;采用設有孔隙的阻尼布,并使阻尼布涂覆包含二氧化硅顆粒物的精拋光介質(zhì)進行精拋光,本發(fā)明提供的玻璃晶片拋光方法緩解了現(xiàn)有技術中晶片拋光表面粗糙度的均一性較差的技術問題,可以降低二氧化硅顆粒物因磨損產(chǎn)生的粒度變化,從而有利于降低晶片表面粗糙度的算數(shù)平均值和晶片表面粗糙度的均方根值。 |
