一種納米殼聚糖復(fù)合鋰電池隔膜及制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201410111400.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN104953068A | 公開(公告)日 | 2015-09-30 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN104953068A | 申請(qǐng)公布日 | 2015-09-30 |
分類號(hào) | H01M2/16(2006.01)I;C08J9/28(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 郭小平;孫清彬;龔正烈;龔葆紅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 四川禧丹佛鋰電有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 618300 四川省廣漢市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)成都大道中段8號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于鋰電池制造領(lǐng)域,涉及一種納米殼聚糖復(fù)合鋰電池隔膜及其制造方法。本發(fā)明提供一種由(納米殼聚糖溶膠粒子和微米殼聚糖溶膠粒子)網(wǎng)絡(luò)與烯烴類共聚膠乳/聚環(huán)氧乙烷構(gòu)成的離子聚合物膜材料。它是以(納米殼聚糖溶膠粒子和微米殼聚糖溶膠粒子)網(wǎng)絡(luò)作為支撐體,經(jīng)流延、干燥形成納米殼聚糖復(fù)合簿膜。該膜具優(yōu)異三維網(wǎng)絡(luò)構(gòu)象,孔隙率大于80%以上,隔膜的厚度為5~60μm。該膜無應(yīng)力效應(yīng)、無形態(tài)記憶效應(yīng);該膜在電解液中及-40—150℃下,具化學(xué)穩(wěn)定性、形態(tài)尺寸穩(wěn)定性、熱穩(wěn)定性、絕緣性及良好的物理機(jī)械強(qiáng)度(抗張、抗沖擊、柔韌曲繞等);與電解液有良好的吸附親和性。納米殼聚糖組合膜具陽電荷特征,可為正電鋰離子提供自由通道。 |
