柱狀磁控濺射器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200610062227.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN101126152B 公開(kāi)（公告）日 2010-04-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN101126152B 申請(qǐng)公布日 2010-04-21
分類號(hào) C23C14/35(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 許生;徐升東;譚曉華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳豪威科技集團(tuán)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳新創(chuàng)友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 深圳豪威真空光電子股份有限公司;深圳豪威科技集團(tuán)股份有限公司
地址 518054 廣東省深圳市南山區(qū)深南大道市高新技術(shù)工業(yè)村W1A區(qū)一樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種柱狀磁控濺射器，包括靶筒、弧形屏蔽罩和磁極裝置，弧形屏蔽罩位于靶筒的側(cè)面，所述磁極裝置包括板狀磁軛、在板狀磁軛上同平面平行排列固定的一對(duì)側(cè)面磁鋼和中間磁鋼、位于側(cè)面磁鋼與中間磁鋼之間的中間間隔條，所述板狀磁軛平行排列固定在與弧形屏蔽罩相對(duì)的靶筒的另一側(cè)面。進(jìn)一步，在所述中間磁鋼的上下端部增設(shè)有增強(qiáng)磁鋼，增強(qiáng)磁鋼的靠近端面的高度低于增強(qiáng)磁鋼的靠近中間磁鋼端面的高度。本發(fā)明通過(guò)設(shè)置增強(qiáng)磁鋼，克服了現(xiàn)有磁極排布會(huì)造成端部的磁場(chǎng)弱于中間的磁場(chǎng)的缺陷，使得整個(gè)靶面的水平磁場(chǎng)更加均勻，有利于整個(gè)靶刻蝕的均勻性而且形成了完整閉合的磁路，靶材的利用率得到了進(jìn)一步的提高。