一種基于銻快門開關(guān)的無失配II類超晶格結(jié)構(gòu)及制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010126548.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111223948A | 公開(公告)日 | 2020-06-02 |
申請公布號 | CN111223948A | 申請公布日 | 2020-06-02 |
分類號 | H01L31/0352(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 徐志成;朱藝紅;梁釗銘;陳凱豪;陳建新 | 申請(專利權(quán))人 | 中科愛畢賽思(常州)光電科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海滬慧律師事務(wù)所 | 代理人 | 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 |
地址 | 213000 江蘇省常州市新北區(qū)華山中路23號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種基于銻快門開關(guān)的無失配II類超晶格結(jié)構(gòu)及制備方法。其單周期結(jié)構(gòu)包括GaSb層,InAs層和InAsSb界面層三層結(jié)構(gòu)。其制備方法是在II類超晶格周期性結(jié)構(gòu)生長過程中,GaSb生長后直接生長InAs層,InAs生長后,打開Sb快門,使得Sb和InAs層中的As進行元素置換,從而形成InAsSb界面層。其特點在于:由于取消了InSb界面層的直接生長,僅在InAs生長后通過引入Sb浸潤形成InAsSb界面層,既滿足了應(yīng)力補償?shù)男枨?,又簡化了界面制備工藝難度,此外,避免了大失配InSb界面直接生長時引入的島裝結(jié)構(gòu)缺陷,提高了材料性能。?? |
