一種帶有下料功能的全自動硅片清洗機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122606313.X 申請日 -
公開（公告）號 CN216460411U 公開（公告）日 2022-05-10
申請公布號 CN216460411U 申請公布日 2022-05-10
分類號 B08B3/02（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;B65G49/06（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 洪布雙;何飛;蔡鵬 申請（專利權(quán)）人 江蘇德潤光電科技有限公司
代理機構(gòu) 南京申云知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 225600江蘇省揚州市高郵經(jīng)濟開發(fā)區(qū)凌波路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了硅片清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域的一種帶有下料功能的全自動硅片清洗機，包括：設(shè)備本體與罩體，所述罩體安裝在設(shè)備本體的頂部壁上，所述罩體內(nèi)腔頂部安裝有清洗機構(gòu)，所述設(shè)備本體內(nèi)腔頂部安裝有傳輸機構(gòu)，所述設(shè)備本體頂部壁開設(shè)有集液槽，所述排液通道內(nèi)腔右側(cè)頂部安裝有擋板，且擋板為排渣通道的上方，且擋板左端傾斜向上設(shè)置，裝置中通過擋板對下落的清潔液和殘片進行阻攔，使殘片在擋板上方沉積，清潔液會從擋板上方溢出落到集液箱中，由擋板對殘片進行收放，使殘片實際下落的距離減小，減小殘片下落時受到的沖擊力，使殘片發(fā)生破碎的幾率降低，使殘片進入到集液箱中的幾率降低。