X射線探測陣列像素單元、制造工藝和雙層能譜CT探測器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111030092.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113671553A 公開（公告）日 2021-11-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN113671553A 申請(qǐng)公布日 2021-11-19
分類號(hào) G01T1/161（2006.01）I;G01T1/16（2006.01）I;G01T1/20（2006.01）I;G01T1/202（2006.01）I;G01T1/24（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 李文;黃海波;吳小頁 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南京安科醫(yī)療科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京睿之博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉菊蘭
地址 211113江蘇省南京市江寧區(qū)江寧經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)飛天大道69號(hào)2號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種X射線探測陣列像素單元、雙層閃爍體陣列的制造工藝以及基于該像素單元的雙層能譜CT探測器，像素單元包括頂層閃爍體像素、底層閃爍體像素、薄膜光過濾層和光敏陣列等，頂層和底層閃爍體陣列的子像素采用發(fā)射不同光譜的閃爍體材料加工而成，薄膜光過濾層對(duì)應(yīng)每個(gè)閃爍體像素的光輸出面，光敏陣列的像素分為兩個(gè)獨(dú)立的子像素區(qū)域，其輸出信號(hào)分別對(duì)應(yīng)頂層閃爍體像素和底層閃爍體像素的X光響應(yīng)，可以有效地獲得入射X射線的能譜信息。本發(fā)明的雙層閃爍體陣列采用二維陣列加工工藝，探測器子模塊的整合工藝采用與常規(guī)CT探測器相同的疊加裝配工藝，不影響探測器的靈敏面積，能夠有效保持成像的劑量效率以及控制探測器的成本。