雙室三工位多靶共濺磁控濺射鍍膜方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811489707.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111286706A | 公開（公告）日 | 2020-06-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111286706A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-16 |
| 分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 鐘洪偉;劉奎;陳年庚;趙娟;劉子毓 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 北京華業(yè)陽光新能源有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 北京華業(yè)陽光新能源有限公司;北京啟迪清潔能源科技有限公司 |
| 地址 | 100080北京市海淀區(qū)成府路45號(hào)智造大街A座305 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種雙室三工位多靶共濺磁控濺射鍍膜方法，具有第一鍍膜室、第二鍍膜室、室外裝卸工位以及集熱管小車，所述第一鍍膜室的真空腔體內(nèi)設(shè)有若干根直流磁控濺射靶，所述第二鍍膜室設(shè)有數(shù)根直流磁控濺射靶與數(shù)根中頻磁控濺射靶；通過在第一鍍膜室完成紅外反射涂層鍍膜工藝，在第二鍍膜室完成選擇性吸收涂層鍍膜工藝，周而復(fù)始地高效完成鍍膜工作；在工作過程中，第二鍍膜室始終保持真空，而第一鍍膜室在破真空時(shí)使用干燥空氣來填充，有效避免了濕空氣、污染物影響鍍膜質(zhì)量。?? |
