雙室三工位多靶共濺磁控濺射鍍膜方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811489707.8 申請日 -
公開（公告）號 CN111286706A 公開（公告）日 2020-06-16
申請公布號 CN111286706A 申請公布日 2020-06-16
分類號 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 鐘洪偉;劉奎;陳年庚;趙娟;劉子毓 申請（專利權）人 北京華業(yè)陽光新能源有限公司
代理機構 北京科龍寰宇知識產(chǎn)權代理有限責任公司 代理人 北京華業(yè)陽光新能源有限公司;北京啟迪清潔能源科技有限公司
地址 100080北京市海淀區(qū)成府路45號智造大街A座305
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種雙室三工位多靶共濺磁控濺射鍍膜方法，具有第一鍍膜室、第二鍍膜室、室外裝卸工位以及集熱管小車，所述第一鍍膜室的真空腔體內(nèi)設有若干根直流磁控濺射靶，所述第二鍍膜室設有數(shù)根直流磁控濺射靶與數(shù)根中頻磁控濺射靶；通過在第一鍍膜室完成紅外反射涂層鍍膜工藝，在第二鍍膜室完成選擇性吸收涂層鍍膜工藝，周而復始地高效完成鍍膜工作；在工作過程中，第二鍍膜室始終保持真空，而第一鍍膜室在破真空時使用干燥空氣來填充，有效避免了濕空氣、污染物影響鍍膜質(zhì)量。??