一種化學機械拋光墊
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020635635.X | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211992445U | 公開（公告）日 | 2020-11-24 |
| 申請公布號 | CN211992445U | 申請公布日 | 2020-11-24 |
| 分類號 | B24B37/26(2012.01)I | 分類 | 磨削；拋光; |
| 發(fā)明人 | 朱文獻 | 申請（專利權）人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 代理機構 | 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 | 代理人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市南山區(qū)桃源街道長源社區(qū)學苑大道1001號南山智園C3棟201 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開了一種化學機械拋光墊，包括拋光墊基板，拋光墊基板為圓形，拋光墊基板設置有以其中心為圓點的若干同心環(huán)形凸起，若干同心環(huán)形凸起間隔設置，若干同心環(huán)形凸起沿拋光墊基板的徑向方向上的寬度一致，若干同心環(huán)形凸起沿拋光墊基板的直徑方向分隔成均等分的若干凸臺，且若干凸臺以拋光墊基板的中心為對稱點對稱設置，同一同心環(huán)形凸起上的相鄰兩凸臺之間形成溝槽；每一凸臺的頂部呈圓弧通槽或圓弧凸面設置。本實用新型技術方案旨在利用凸臺頂部的圓弧通槽或圓弧凸面以增加拋光墊有效面積，提高材料去除效率；同心環(huán)形凸起之間的間隔和相鄰兩凸臺之間的溝槽利于拋光液均勻分配和流動。?? |
