一種具有消影功能的納米銀線透明導(dǎo)電膜蝕刻方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911045622.5 申請日 -
公開（公告）號 CN110629222B 公開（公告）日 2022-02-18
申請公布號 CN110629222B 申請公布日 2022-02-18
分類號 C23F1/02（2006.01）I;C23F1/12（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 呂鵬;張梓晗;楊錦;姚成鵬;張運奇;聶彪 申請（專利權(quán)）人 合肥微晶材料科技有限公司
代理機構(gòu) 安徽省合肥新安專利代理有限責(zé)任公司 代理人 盧敏
地址 230088安徽省合肥市高新區(qū)黃山路602號A105
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種具有消影功能的納米銀線透明導(dǎo)電膜蝕刻方法，是首先在納米銀線透明導(dǎo)電膜表面設(shè)置圖案化感光膠層，然后放入等離子體蝕刻倉內(nèi)進行等離子體蝕刻，再去除蝕刻后導(dǎo)電膜表面的圖案化感光膠層并水洗、烘干即可。本發(fā)明通過控制蝕刻工藝，使蝕刻區(qū)不導(dǎo)電的同時大部分保留下來，從而降低蝕刻區(qū)和非蝕刻區(qū)的霧度差，達到消影目的，并且本發(fā)明的方法操作簡單、效率高，易于實現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。