一種新型晶硅SiON雙面電池背鈍化工藝
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011100277.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112382696B | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-05-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112382696B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-10 |
分類號(hào) | H01L31/18(2006.01)I;H01L31/068(2012.01)I;H01L31/0216(2014.01)I;C23C16/30(2006.01)I;C23C16/515(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊飛飛;張波;魯貴林;趙科巍;郭衛(wèi);張?jiān)迄i;李雪方;郭麗;杜澤霖;李陳陽(yáng);呂愛(ài)武 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 山西潞安太陽(yáng)能科技有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 太原市科瑞達(dá)專利代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 046000山西省長(zhǎng)治市郊區(qū)漳澤新型工業(yè)園區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池生產(chǎn)領(lǐng)域,特別涉及雙面太陽(yáng)能電池生產(chǎn)領(lǐng)域。一種新型晶硅SiON雙面電池背鈍化工藝,在背面晶硅基體上直接制備氮氧化硅層,然后在進(jìn)行退火,最后再制備氮化硅層;氮氧化硅層為單層膜,采用PECVD的方式沉積,工藝參數(shù)為,壓力1500?2000mTorr,溫度450?500℃,功率為8500?12000W,脈沖開(kāi)關(guān)比為1:10至1:16,所通SiH4/NH3/N2O=1.65/1/4至2.5/1/5,且三種氣體SiH4、NH3、N2O總流量需大于7000sccm,時(shí)間40?60s。本發(fā)明不僅有效降低了雙面電池的背面鈍化制造成本,同時(shí)創(chuàng)造性的解決鈍化SiON膜層變薄后鈍化效果變差的問(wèn)題。 |
