一種提升PECVD鍍膜均勻性的裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122492175.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN216473476U 公開（公告）日 2022-05-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN216473476U 申請(qǐng)公布日 2022-05-10
分類號(hào) C23C16/50（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張?jiān)迄i;王玉;趙科巍;楊飛飛;梁玲;李雪方 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 山西潞安太陽(yáng)能科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 太原市科瑞達(dá)專利代理有限公司 代理人 -
地址 046000山西省長(zhǎng)治市高新區(qū)漳澤新型工業(yè)園區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能電池生產(chǎn)領(lǐng)域，一種提升PECVD鍍膜均勻性的裝置，該裝置安裝在PECVD的爐管的口部?jī)?nèi)側(cè)，包括雙層管狀結(jié)構(gòu)、加強(qiáng)板，雙層管狀結(jié)構(gòu)的夾層兩端面密封，雙層管狀結(jié)構(gòu)一端夾層密封面上有小孔，加強(qiáng)板有3?4塊，每塊都加強(qiáng)板處于雙層管狀結(jié)構(gòu)的外側(cè)周壁上，且所有加強(qiáng)板處于同一個(gè)圓的圓周上，每塊加強(qiáng)板上有一個(gè)貫穿加強(qiáng)板和雙層管狀結(jié)構(gòu)外壁的帶內(nèi)螺紋的第一通孔，PECVD的爐管有與第一通孔配合的帶螺紋的第二通孔，進(jìn)氣裝置通過(guò)連接連接安裝在第一通孔和第二通孔上。