一種圖形化材料制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011008282.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN112108348A 公開(kāi)(公告)日 2020-12-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN112108348A 申請(qǐng)公布日 2020-12-22
分類號(hào) B05D5/06(2006.01)I 分類 一般噴射或霧化;對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 李中天 申請(qǐng)(專利權(quán))人 蘇州太陽(yáng)井新能源有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州吳韻知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 王銘陸
地址 215127江蘇省蘇州市吳中區(qū)甪直鎮(zhèn)凌港路128號(hào)3幢4層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種圖形化材料制備方法,包括以下制備步驟:S1、涂布,在襯底上涂布一次不溶于水的聚合物,再通過(guò)軟烘形成單層的涂布層;或,在襯底上涂布至少兩次不溶于水的聚合物,每次涂布后均進(jìn)行軟烘,以此形成疊層的涂布層;所述聚合物含有保護(hù)基團(tuán);S2、打印,將含酸溶液打印到所述涂布層上的反應(yīng)區(qū),所述反應(yīng)區(qū)對(duì)應(yīng)圖形化材料中不需要保留的區(qū)域;S3、加熱,加熱所述反應(yīng)區(qū)中的含酸溶液和聚合物,直至所述反應(yīng)區(qū)中的聚合物失去保護(hù)基團(tuán)后易溶于水;S4、顯影,將所述反應(yīng)區(qū)中失去保護(hù)基團(tuán)的聚合物浸潤(rùn)到顯影溶液中,所述涂布層形成圖形化材料。相比于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明提供的方法能夠降低圖形化材料的制備成本并提高制備穩(wěn)定性,且普適性高。??