商標(biāo)進(jìn)度

商標(biāo)申請(qǐng)
2021-08-12
初審公告
2021-11-13
已注冊
終止
商標(biāo)詳情
商標(biāo) |
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圖
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商標(biāo)名稱 | 圖形 | 商標(biāo)狀態(tài) | 初審公告 |
申請(qǐng)日期 | 2021-08-12 | 申請(qǐng)/注冊號(hào) | 58434923 |
國際分類 | 01類-化學(xué)原料 | 是否共有商標(biāo) | 否 |
申請(qǐng)人名稱(中文) | 福建福豆新材料有限公司 | 申請(qǐng)人名稱(英文) | - |
申請(qǐng)人地址(中文) | 福建省邵武市金塘工業(yè)園區(qū)七牧平臺(tái) M3 | 申請(qǐng)人地址(英文) | - |
商標(biāo)類型 | 商標(biāo)注冊申請(qǐng)---申請(qǐng)收文 | 商標(biāo)形式 | - |
初審公告期號(hào) | 1767 | 初審公告日期 | 2021-11-13 |
注冊公告期號(hào) | 58434923 | 注冊公告日期 | - |
優(yōu)先權(quán)日期 | - | 代理/辦理機(jī)構(gòu) | 武漢大信智和知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)有限公司 |
國際注冊日 | - | 后期指定日期 | - |
專用權(quán)期限 | - | ||
商標(biāo)公告 | - | ||
商品/服務(wù) |
半導(dǎo)體生產(chǎn)中在半導(dǎo)體晶片上沉積薄膜用化工原料(0104)
半導(dǎo)體制造用蝕刻劑(0104)
氟(0101)
工業(yè)用化學(xué)品(0104)
工業(yè)用化學(xué)制劑(0104)
氯化物(0102)
液體二氧化硫(0101)
乙炔(0102)
乙烯(0102)
有機(jī)鹵化物(0102)
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商標(biāo)流程 |
2021-08-12
商標(biāo)注冊申請(qǐng)---申請(qǐng)收文 |
