含H酸結(jié)構(gòu)雙偶氮型耐曬酸性染料及其制備方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910293111.9 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN110079119B | 公開（公告）日 | 2019-08-02 |
| 申請公布號 | CN110079119B | 申請公布日 | 2019-08-02 |
| 分類號 | C07D211/46(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 崔志華;陳小勇;孫巖峰;楊福良 | 申請（專利權(quán)）人 | 江蘇吉華化工有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 杭州中成專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 金祺 |
| 地址 | 310000浙江省杭州市杭州經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)M6-5-1地塊 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于化工領(lǐng)域，具體涉及含H酸結(jié)構(gòu)雙偶氮型耐曬酸性染料及其制備方法。該制備方法為：步驟1)、五甲基哌啶醇的氯化反應(yīng)，從而制備獲得氯化中間體產(chǎn)物HALS?Cl；步驟2)、HALS?Cl與含H酸結(jié)構(gòu)的雙偶氮型酸性染料縮合，最終得到作為產(chǎn)物的含H酸結(jié)構(gòu)雙偶氮型耐曬酸性染料。本發(fā)明針對含H酸結(jié)構(gòu)的雙偶氮型酸性染料耐曬牢度偏低的問題，在染料結(jié)構(gòu)中偶氮鍵相鄰位置同時引入兩個受阻胺光穩(wěn)定片段，并將羥基和氨基分別轉(zhuǎn)化為了醚鍵(?O?)和亞氨基(?NH?)，有效避免了氨基(?NH2)或羥基(?OH)的氧化反應(yīng)，同時實現(xiàn)了雙偶氮鍵的近距離保護，從而開發(fā)出一系列耐曬牢度優(yōu)異的雙偶氮型酸性染料。?? |
