一種八甲基環(huán)四硅氧烷中金屬雜質(zhì)的去除設備及工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011640584.0 申請日 -
公開（公告）號 CN112759608A 公開（公告）日 2021-05-07
申請公布號 CN112759608A 申請公布日 2021-05-07
分類號 C07F7/21 分類 有機化學〔2〕;
發(fā)明人 蒲云平;莫杰;馮曉青;趙強;胡通;紀淼;寧紅鋒 申請（專利權）人 有研國晶輝新材料有限公司
代理機構 北京辰權知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 金銘
地址 065201 河北省廊坊市三河市燕郊興都村南有研科技集團有限公司二部
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種八甲基環(huán)四硅氧烷中金屬雜質(zhì)的去除設備及工藝，包括將待純化的八甲基環(huán)四硅氧烷與吸附劑及萃取劑混合，進行吸附?萃取反應；所述吸附?萃取反應結束后，靜置分層，將上層清液分離至精餾塔中進行精餾提純，即得到高純度八甲基環(huán)四硅氧烷。本工藝利用極性溶劑更易溶解極性物質(zhì)的原理，采用極性溶劑從非極性溶劑八甲基環(huán)四硅氧烷中萃取金屬雜質(zhì)，并采用吸附劑吸附極性溶劑中的金屬雜質(zhì)，使萃取平衡向極性溶劑中轉移，然后再經(jīng)靜置分層，分離出上層八甲基環(huán)四硅氧烷。本發(fā)明的工藝避免了吸附的金屬雜質(zhì)脫附，從而獲得了穩(wěn)定的金屬雜質(zhì)去除效果，而且還減少了后續(xù)精餾的難度，具有節(jié)省能耗的優(yōu)點。