一種拋光墊

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111506323.4 申請日 -
公開（公告）號 CN114193319A 公開（公告）日 2022-03-18
申請公布號 CN114193319A 申請公布日 2022-03-18
分類號 B24B37/22（2012.01）I;B24B37/10（2012.01）I;B24B37/24（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 羅乙杰;張季平;高越;劉敏 申請（專利權(quán)）人 湖北鼎龍控股股份有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 430057湖北省武漢市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)東荊河路1號411號房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種拋光墊，其中，拋光墊中的緩沖層在施加壓力F0后的應(yīng)力松弛階段t時刻的回復(fù)力Ft與施加壓力F0的比值與t滿足如下式（1）中的擬合關(guān)系，其中，0≤t≤30s，所述a、b為常數(shù)，且滿足：0.01≤a≤0.1和/或1.0≤b≤1.1，式（1）的擬合優(yōu)度R2≥0.95，滿足上述擬合關(guān)系的緩沖層制備而來的拋光墊，去除速率曲線及邊緣去除速率在拋光墊的整個生命周期內(nèi)均保持穩(wěn)定，波動較小，研磨速率不均一性NU值較低且波動較小。f（t）＝Ft/F0＝?a·ln（t）+b （1）。